Kiss Dániel nyolcadik lett 60 m gáton a fedettpályás vébén

InfoRádió / MTI
2010. március 14. 16:49
Kiss Dániel a nyolcadik helyen végzett 60 m gáton a dohai fedettpályás atlétikai világbajnokságon. A számot az olimpiai bajnok kubai Dayron Robles nyerte.

Az idén országos csúcsot (7.56 mp) felállító 28 éves magyar atléta elődöntős futamában negyedikként ért célba 7:64 másodperccel, de ezzel az időeredménnyel - a három elődöntő első és második helyezettjeihez csatlakozva - még éppen "befért" a nyolcfős fináléba. Kiss, aki a harmadik, utolsó futamban próbált szerencsét, a legjobb 24 között 7.65 mp-cel biztosította helyét.

A 28 éves magyar atléta beragadt a rajtnál, s a táv második felében már nem tudott felzárkózni a rendkívül erős mezőnyhöz. 7.81-gyel ért célba. A magyarok ezelőtt legutóbb hét éve értek el döntős helyezést tető alatti vb-n, éremből pedig három bronzot sikerült gyűjteni eddig.

Robles 7.34 mp-cel, mellbedobással előzte meg a kétszeres fedettpályás vb-első amerikai Terrence Trammellt (7.36), harmadik a szintén amerikai David Oliver (7.44) lett. A 2004-es olimpiai bajnok, s hosszú sérülés után visszatért kínai Liu Hsziang hetedikként zárt.

Kiss Dánielen kívül még két magyar szerepelt a vb-n: a súlylökő Kürthy Lajos és Márton Anita egyformán a 17. helyen végzett.